3M提高製造工序的精密度、效率及表現。
如果您從事半導體生產和處理,就應該與3M建立夥伴關係。我們在微複製、納米技術和製模等各方面的專門知識,能為您提供解決方案,令您的工序更統一及精確。
五十多年來,3M一直提供各種材料,從頭到尾照顧您的工序,當中包括CMP和表面處理材料、晶圓加工、控制溫度的工程液、以至為電路片運輸而設的膠帶及捲軸。
與3M結成夥伴,您就獲得全球的支援。我們的技術人員駐守在全球主要的地點,為顧客服務。
3M為CMP而設的研磨墊調節器,確保目前先進的科技及化學機械磨平工序取得一致表現。研磨墊調節器備有多種尺寸和配置可供選擇,能配合大部份新舊CMP工具使用。
半導體製造過程中,設備和工具必須頻密及徹底清洗,以去除會引致設備失效的顆粒和其他污染物。
但是,一些溶劑如IPA和丙酮等都是易燃的,而且會損害某些精緻的材料。而不易燃的選擇,例如水洗工藝,則會留下殘餘物,增加腐蝕的風險。它們都可能需要更高昂的資本設備和營運成本。
這就是3M提供不易燃、先進清潔溶劑的原因,它們有助滿足您對效能表現、安全及環境保護的要求。